??????????????????????????②
把②带入①得
16??LS△Gr= 23?Gv*32，Vc=?r?3432?32?rLS4?(?LS)3?? 3?Gv3?Gv33V??G16??LS* ?c???Gr223?Gv七、解： 对 FeO,易形成负离子过剩型非化学计量化合物,其缺陷反应式为：
另外,在MgO的烧结中是正离子起扩散起控制作用的烧结过程,因而氧气氛和氧分压较高是有利的。 八、Dc>DNi
固溶体类型不同，扩散机制不同，导致扩散系数不同。
碳在面心立方铁中形成间隙固溶体，按间隙扩散机制进行扩散，扩散活化能小，扩散系数大。镍在面心立方铁中形成置换固溶体，按空位扩散机制进行扩散，扩散活化能大，扩散系数小。 九．1，图略
2，D 不一致熔融三元化合物，F 一致熔融三元化合物
3，E1 低共融点L ?A+C+D E2低共熔点L ?C+D+F E3双降点 L+F+A ?D E4低共融点L ?C+B+F
E5低共融点L ?F+A+B
4
?A?A?F?F?A?D?A?D?A?C?DR?L???1?L????E3?L????E3(液相消失)?L????E1?L????E1(结晶结束)A?A?2?3?4?R（产物为A、D、C）
武汉理工材料科学基础2009年真题参考答案
一、 填空题
1，[SiO4]四面体之间的结合方式；岛状，组群装，链状，层状，架状，层状 2，???o(10o??o?15o) ；倾斜晶界；刃错位 3，组成和温度，可逆和渐变的 4，在数值上，弹性能
5，平衡状态 影响平衡的因素，动态法，静态法
6，质点的无规则运动，化学位梯度，低浓度向高浓度的扩散 7， 超导体转变
8，接触界面上的化学反应，反应物通过产物层的扩散 9，流动传质，气相传质，溶解-沉淀传质 10，全面腐蚀，局部腐蚀，高分子材料的腐蚀 二、
1:，高分子链的近程结构：依据结构单元化学组成不同，高分子链有碳链高分子，杂链高分子，元素有机高分子，无机高分子等类型。远程结构是指单个高分子的结构，包括高分子的大小和形态，决定高分子的柔顺性。
2，不一致，非均态核化的形核功小，大多数相变是非均态核化在异界面上，这种表面可以通过表面能地作用使核化势垒减少而促进核化进行。 3，相变要自发进行必须 ?G??H??T/TO?0
当?H?0时，为使?G?0，必须?T?0由此可知TO?T?0即在相变过程放热的情况下，系统必须“过冷”才能使相变得以进行
当?H?0时，?T?0，TO?T?0，系统必须“过热”
4，适用于稳态扩散，杨德方程在反应初期具有很好的适应性，其在计算产物质时考虑了接触界面的变化，但在产物产物层厚度x带入抛物线方程式又保留了扩散面积恒定的假设。
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